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膜元件化学清洗

RO反渗透膜离线清洗

RO反渗透膜离线清洗

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RO反渗透膜离线清洗


1、反渗透膜元件的污染物

在正常运行一段时间后,反渗透膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染,这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及有机或无机沉积物。

污染物的性质及污染速度与给水条件有关,污染是慢慢发展的,如果不在早期采取措施,污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。

定期检测系统整体能性是确认膜元件发生污染的一个好方法,不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。表1列出了常见污染物对膜性能的影响。

2、污染物的去除

污染物的去除可通过化学清洗和物理冲洗来实现,有时亦通过改变运行条件来实现,作为一般的原则,当下列情形之一发生时应进行清洗。

①在正常压力下如产品水流量降至正常值的10~15%。

②为了维持正常的产品水流量,经温度校正后的给水压力增加了10~15%。

③产品水质降低10~15%,盐透过率增加10~15%。

④使用压力增加10~15%。

⑤RO各段间的压差增加明显(也许没有仪表来监测这一迹象)。

常见污染物

1、碳酸钙垢

2、硫酸钙垢

3、金属氧化物垢

4、硅垢

5、有机沉淀物


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